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Hochauflösendes 3D-Laserlithographiesystem

Archiv | Abgabetermin 18.07.2017 | Die EPFL beabsichtigt, ein hochauflösendes 3D-Laserlithographiesystem basierend auf dem Zwei-Photonen-Absorptions-Phänomens zu erwerben. Ein (femtosekunden-)gepulster Infrarot-Laser mit hoher...
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