Hochauflösendes 3D-Laserlithographiesystem

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Abgabetermin: 18.07.2017

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 08.06.2017 | Die EPFL beabsichtigt, ein hochauflösendes 3D-Laserlithographiesystem basierend auf dem Zwei-Photonen-Absorptions-Phänomens zu erwerben. Ein (femtosekunden-)gepulster Infrarot-Laser mit hoher Spitzenleistung wird auf einen beschichteten Wafer fokussiert, wodurch Zwei-Photonen-Polymerisation der lichtempfindlichen Polymeren (Negativton-Lichtempfindlichkeit) induziert wird. Die Anlage ist auch mit der Belichtung von positiven Novolac / Diazonaphthochinon-Photoresisten kompatibel.


Im Hinblick auf die Bedürfnisse der EPFL werden die Schwerpunkte auf Herstellung von:

  • weichen und biokompatiblen Mikroaktuatoren für minimal-invasive klinische Operationen
  • massgeschneiderten AFM Spitzen mit hohen Seitenverhältnissen
  • hohlen mechanischen Strukturen für Steifheitsmessung von Zellen
  • photonischen Leiterverbindungen, die in Nano-Opto-Elektromechanischen Systemen verwendet werden
  • Mikro- und Nanotelektroden aus glasartigen Kohlenstoff
  • mikrooptischen Elementen
Bedarfsstelle/Vergabestelle:

Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)

HINWEISE: Beachten Sie bitte die Eingabevorschriften. Dies ist keine amtliche Veröffentlichung. Massgebend sind die vom seco mit einer elektronischen Signatur versehenen SHAB-Daten. Die Adresse für die Unterlagen sowie eine detaillierte Beschreibung finden Sie auf der SSL-gesicherten Detailseite.