Auftragsart: Lieferung
12.12.2025 | Zwei-Photonen-3D-Lithografie-Drucksystem FIRST-CLA an der ETH Zürich:
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt:
- 1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit
- 2) 3D-Druck von Strukturen in der Größenordnung von Submillimetern bis zu mehreren Millimetern in XYZ mit Hülle/Gerüst und frei beweglichen Teilen. Das System muss es dem Benutzer ermöglichen, zwischen verschiedenen Konfigurationen zu wechseln (höchste Auflösung, geringere Auflösung, aber schneller).
- 3) 3D-Druck auf verschiedenen Substraten wie Wafern, Chips und Fasern opaker und transparenter Beschaffenheit ohne Vorbehandlung.
Weitere Informationen finden Sie in den Ausschreibungsunterlagen.
Auftraggeber (Beschaffungsstelle/Bedarfsstelle):
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services