Supraleitende Abscheidekammer

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Abgabetermin: 07.05.2019 - 16:00 Uhr

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 28.03.2019 | UHV-Kammer, die zur Metallabscheidung durch Magnetronsputtern und thermische Verdampfung geeignet ist. Zweck ist die Abscheidung dünner supraleitender Schichten. Aluminium und Zinn sollen unter UHV-Bedingungen evapo-Rating und NbSn/NbTi(N) (reaktiv) magnetrongesputtert werden. Die Kammer muss über 5 Anschlüsse verfügen, davon 3 für Sputterquellen und 2 für Verdampfungsquellen. Darüber hinaus soll die Kammer mit einem UHV-Tunnel in Richtung des bestehenden MBE-Aufbaus verbunden werden. Der Tunnel wird von der ETH zur Verfügung gestellt bis hin zum metallischen Dichtventil zur Kammer.


(Details gemäss Spezifikation)

 

Bedarfsstelle/Vergabestelle:
ETH Zürich

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