Öfen für chemische
Niederdruck-Gasphasenabscheidung (LPCVD)

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Abgabetermin: 08.06.2020

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 28.04.2020 | Die EPFL beabsichtigt Öfen für chemische Niederdruck-Gasphasenabscheidung (LPCVD) für ihr Zentrum für MikroNanotechnologie (CMi) zu erwerben.


Die Anlage wird auf dem neuesten Stand der Forschung in Siliziumnitrid basierend integrierten Mikroresonator-Soliton-Frequenzkämmen basierend auf gewidmet sein:

  • Abscheidung in einem LPCVD-Prozess von hoher Qualität Siliziumoxid (SiO2) und Siliziumnitrid (Si3N4) Dünnfilmen mit geringer Verunreinigung, niedrigem Wasserstoffgehalt, und hoher Dichte, für die Herstellung von integrierten Si3N4 Wellenleiter mit geringem Verlust und hohem Einschluss
  • Absheidung von stöchiometrischem Si3N4, und Siliziumreichem Si3N4 mit niedriger Beanspruchung
  • Kontaminationsfreies Hochtemperaturglühen von Dünnschichten mit Argon- (Ar) und Stickstoff (N2) Gasen
  • Nasse / trockene thermische Oxidation von Silizium
 

Bedarfsstelle/Vergabestelle:
Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)

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