HiPIMS Sputter Chamber

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Abgabetermin: 04.08.2020 - 14:00 Uhr

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 24.06.2020 | Zum Aufbau einer einzigartigen Forschungsinfrastruktur für die Entwicklung neuartiger Hochenergieverfahren zur physikalischen Gasphasenabscheidung. Ziel dieser Ausschreibung ist die Anschaffung einer UHV-Sputter-Beschichtungskammer mit modernsten In-situ-Überwachungsmöglichkeiten. Die Sputterkammer muss in der Lage sein, Dünnschichtabscheidung mit verschiedenen Sputtertechniken durchzuführen, einschließlich Hochfrequenz-, Gleichstrom- und Hochleistungs-Magnetron-Sputtern (HiPIMS).

 

Bedarfsstelle/Vergabestelle:
Empa Dübendorf

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