Flash Lamp Annealing System

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Abgabetermin: 24.06.2019

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 15.05.2019 | EPFL beabsichtigt für das Zentrum der MikroNanoTechnologie (CMi) ein “Flash Lamp Annealing System” zu beschaffen. Es ist beabsichtigt, die Apparatur in zukunftweisender Forschung über Dünnfilme aus metallischen Legierungen, Oxiden, keramischen Werkstoffen und Halbleitern einzusetzen. Bezugnehmend auf die Anforderungen der EPFL und die spezifischen wissenschaftlichen Ziele des Zentrums der MikroNanoTechnologie wird folgenden Forschungsfeldern besondere Wichtigkeit beigemessen:

  • Entwicklung von inorganischen halbleitenden Infrarot (IR) Photodetektoren
  • Aktivierung von Dotierungen in implantierten oder in Dünnschicht hergestellten Halbleitern
  • Verbesserung der Mikrostruktur und Kristallqualität durch Ausheizen (“annealing”)
  • Verbesserung von Oxid/Halbleiter- und Metall/Halbleiter-Grenzflächen durch schnelles Ausheizen (“fast annealing”)
Bedarfsstelle/Vergabestelle:

Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)

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Rubriken: Forschungsgeräte