Cluster-Sputteranlage

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Abgabetermin: 22.07.2020

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 12.06.2020 | Die EPFL beabsichtigt, für ihr CMi eine Cluster-Sputteranlage anzuschaffen.


Die allgemeinen Anforderungen sind wie folgt:

  • Kathodenzerstäubungsmaschine (Sputtermachine) für die Dünnschichtabscheidung:
    o Cluster-System mit 5 Prozesskammern zur Abscheidung von Metallen, Oxiden und Nitriden.
    o Automatisches Wafer-Transfersystem von der Kassette zu den Prozesskammern.
    o Kompatibilität der Substratgröße: Von Waferstücken bis zu Wafern Ø 150mm oder mehr. Hinweis: Wafer Ø 100mm ist die am häufigsten verwendete Größe in CMi. Der Transfer eines solchen Wafers muss problemlos möglich sein.
     
  • Betriebsspezifikationen :
    o Einfaches und schnelles Laden und Entladen der Proben,
    o Leichte Bedienbarkeit für unerfahrene Benutzer,
    o Leichte Bedienbarkeit für Benutzerverwaltung und Rezepturverwaltung,
    o Benutzerfreundlichkeit des Austauschs und der Verwaltung der Vebrauchsmaterialien (target exchange & target managment)
Bedarfsstelle/Vergabestelle:

Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)

HINWEISE: Beachten Sie bitte die Eingabevorschriften. Dies ist keine amtliche Veröffentlichung. Massgebend sind die vom seco mit einer elektronischen Signatur versehenen SHAB-Daten. Die Adresse für die Unterlagen sowie eine detaillierte Beschreibung finden Sie auf der SSL-gesicherten Detailseite.