Beschaffung von Beschichtungsanlage

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Abgabetermin: 18.07.2016

Auftragsart: Lieferung

Archiv | 08.06.2016 | Beschichtungsanlage nach dem Prinzip der Laserstrahlverdampfung (PLD-Anlage):

 

Für ihr Labor „Nanoelectronic devices“ und ihr Zentrum für Mikro-und Nanotechnologie, beabsichtigt die Eidgenössische Technische Hochschule in Lausanne (EPFL) eine industriefähige Beschichtungsanlage anzuschaffen die nach dem Prinzip der Laserstrahlverdampfung funktioniert (PLD-Anlage). Die Anlage soll Substratgrössen von bis zu 200 mm Durchmesser beschichten können.


Die Anlage dient der Spitzenforschung in dünnen Oxydschichten mit spezifischen dielektrischen, elektromechanischen, elektrochemischen, optischen, Transport-, und Halbleiter-Eigenschaften. Um den Anforderungen der EPFL und den spezifischen Zielen ihrer Laboratorien in Dünnschichtelektronik, nanoelektronischen Schaltungen, und Mikrosystemen gerecht zu werden, werden hauptsächlich folgende Forschungsgebiete verfolgt:

  • Reine und dotierte dünne Schichten von VO2 für funktionelle Mikroelektronik
  • Reine und dotierte dünne Schichten von HfO2 für nicht-flüchtige Speicherelemente
  • Dünne Schichten aus Perowskit-Verbindungen für Anwendungen in Mikrosystemen, einschliesslich der Materialien PZT, und LaNiO3 als leitendes Oxyd.
  • Beschichtungen mit transparent-leitenden (TCO) oder halbleitenden Materialen für Anwendungen in Photovoltaik (Solarzellen), Photodioden, Lichtemittierende Dioden, und Transistoren, typischerweise: ZnO, IZO, ITO, etc. Wichtig in diesem Zusammenhang ist eine Beschichtung die Substratoberfläche nicht beschädigt.
Bedarfsstelle/Vergabestelle:

Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)

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